Resumen

Películas delgadas de Dióxido de Titanio (TiO₂) fueron crecidas usando deposición física de vapor asistida por plasma (DFVAP) en un sistema de arco catódico a partir de un blanco de Ti. Para la producción de las películas, dentro de la cámara de reacción se ubicaron dos electrodos enfrentados (blanco y sustrato) a una distancia inter-electródica de 4 mm, la cámara de reacción se llenó con una mezcla de gases de argón y oxigeno hasta alcanzar la presión óptima de trabajo (2 mbar). Las descargas se realizaron a partir de un circuito RLC, el cual permite hacer variaciones de voltaje inter electródico de 0 a 300 voltios, con una corriente máxima de 300 amperios. Con GIXRD (Difracción de Rayos X a Incidencia Rasante) se evaluaron las fases cristalinas, el coeficiente de textura, tamaño del cristalito, micro deformación y el parámetro de red de las películas. Usando la ecuación de Scherrer se determinó el tamaño del cristalito y la micro deformación teniendo en cuanta el ensanchamiento instrumental del equipo de XRD, además, para el refinamiento Rietveld se empleo una función pseudo voigt empleando el software TOPAS. El análisis de GIXRD muestra la formación de las fases rutilo y anatasa del TiO₂, con estructura cristalina tetragonal y orientación en los planos (210), (004) y (204) respectivamente. Por medio del análisis de Microscopia Electrónica de Barrido (MEB) y espectroscopia de Energía Dispersiva de Rayos-X (EDX), micrografías y la composición elemental de los recubrimientos fueron obtenidas. Usando μ-RAMAN se corroboró la presencia de las fases correspondientes al TiO₂.

Palabras clave: DFVAP TiO₂ arco catódico GIXRD SEM EDX μ-RAMAN.

2014-07-30   |   381 visitas   |   Evalua este artículo 0 valoraciones

Vol. 19 Núm.1. Enero-Marzo 2014 Pags. 84-88 Scientia et technica 2014; 19(1)